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イオン注入装置(I/I:Ion Implanter)とは、半導体素子構造の材料となるウェーハに不純物イオン(リン・ボロンなど)を注入し、半導体を形成する装置です。コンピューターやスマートフォンのCPU・DRAM・フラッシュメモリーをはじめ電化製品等に搭載されるマイコン・インバーターなど、多種多様な半導体製品の製造に不可欠な装置になります。シリコンやガリウム砒素など半導体材料の電気的特性を精密に制御し決める唯一のプロセスであることから、製造工程の中でも極めて重要で、複雑かつ高度な技術が織り込まれています。

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