ニュースリリース

ビーム・真空応用事業を強化～日新イオン機器の滋賀事業所・プラズマ技術開発センターの土地取得～

日新電機株式会社（本社：京都市右京区、社長：齋藤成雄）は、イオン注入装置をはじめとするビーム・真空応用事業の事業体質・基盤強化を図るべく、グループ会社で半導体およびフラットパネルディスプレイ（以下、FPD）製造用イオン注入装置の製造、販売を手掛ける日新イオン機器株式会社（本社：京都市南区、社長：長井宣夫、以下、日新イオン機器）の主力工場である滋賀事業所・プラズマ技術開発センター（滋賀県甲賀市、以下、滋賀事業所）の土地を購入しました。

同土地は、日新イオン機器が2004年から定期借地としていたものをこの度、当社が購入したものです。

日新イオン機器が製造・販売するイオン注入装置は、半導体やFPDの製造に必要不可欠な装置です。スマートフォンやタブレットなどの有機ELパネルや液晶パネルに使用される、高精細な中小型ディスプレイ向けのFPD製造用イオン注入装置では世界シェア100％を誇り、国内外で高い評価を受けています。さらに、パソコン・モバイル機器などあらゆるデジタル機器に内蔵される半導体デバイスの製造に使用される半導体製造用イオン注入装置では、従来の中電流市場に加え、市場規模の大きい大電流市場向け新製品として、FPD製造用イオン注入装置で実績のある高生産性と中電流イオン注入装置で実績のある高精度注入を実現した大電流イオン注入装置「LUXiON®（ルクシオン）」を新たに開発、市場投入するなど、積極的に事業を展開しています。

当社の土地購入にあわせて、日新イオン機器は今後技術者を同事業所に集結させ、コア技術であるイオンビーム・プラズマ技術による革新的且つ挑戦的な装置・技術・サービスを世界の顧客に向けて提供するイノベーション拠点とすべく、新たに敷地内に事務棟建設を構想しており、当社グループとしてビーム・真空応用事業のさらなる強化・拡大を目指します。

■滋賀事業所・プラズマ技術開発センターの概要

滋賀事業所・プラズマ技術開発センター外観

＜ご参考＞

■日新イオン機器株式会社の概要

■用語解説

・半導体製造用イオン注入装置

イオン注入装置は、IC（集積回路）などの半導体製品を作る過程で、素材であるシリコン（ウエハ）にリンやボロンなどの不純物を添加（注入）する装置です。注入するイオンビームのビーム量によって中電流機・大電流機などに分類されます。

・半導体製造用大電流イオン注入装置「LUXiON（ルクシオン）」

本製品は、大電流機市場への参入製品として、新たに開発、製品化したものです。

鉛直方向に長いイオン源で均一なプラズマを発生させ、シート状かつ均一性の良好な大電流イオンビームを発生させることが可能となっています。また、イオン源から引き出されたビームの形状と均一性を制御しながら高効率でビームを注入処理室まで導き、新設計による高メカニカルスループットを持つ搬送・注入機構を備える事で高い生産性を実現しています。

・フラットパネルディスプレイ（FPD）製造用イオン注入装置

ノート型パソコンや携帯テレビなどに利用される液晶ディスプレイ（LCD）の薄膜トランジスタ（TFT）を形成させるために、大型ガラス基板の上にリンやボロンなどのイオンをシャワー状に均一、高密度に注入する装置です。