• HOME
  • ニュースリリース
  • フラットパネルディスプレイ製造用イオン注入装置「iG8」を開発 ～IT製品市場拡大を受けて、超大型ガラス（第8.6世代）基板に対応～

ニュースリリース

製品・サービス

フラットパネルディスプレイ製造用イオン注入装置「iG8」を開発 ～IT製品市場拡大を受けて、超大型ガラス（第8.6世代）基板に対応～

日新電機株式会社（本社：京都市右京区、社長：松下芳弘）のグループ会社で、半導体・中小型フラットパネルディスプレイ（FPD）製造用イオン注入装置の製造販売を手掛ける日新イオン機器株式会社（本社：京都市南区、社長：長井宣夫、以下 日新イオン機器）は、車載ディスプレイやIT製品ディスプレイ（ノートパソコン、タブレット端末）などにOLED（有機発光ダイオード）の適用拡大が見込まれることを受け、従来装置より高い生産性が実現できる第8.6世代（G8.6）ガラス基板に対応したFPD製造用イオン注入装置「iG8」を開発、この度初号機を出荷しました。
2025年6月より、本格的に販売を開始していきます。

日新イオン機器の既存製品の第6世代（G6）ガラス基板対応のFPD製造用イオン注入装置「iG6」は、主にスマートフォン用の中小型OLEDディスプレイ生産ラインにおいて、LTPSおよびLTPO‐TFT製造工程に広く採用され、高性能かつ低消費電力が実現できるディスプレイ製造に貢献しています。

今後、車載用ディスプレイや高性能IT製品向けの需要が急速に増加することが予想されており、それに対応するため、より大面積のG8.6ガラス基板での製造が不可欠とされています。現在、G6ガラス基板を用いてこれらの製品を生産する場合、効率低下が懸念されています。具体的には、15～17インチサイズのディスプレイではG6ガラス基板の利用効率が約70%に留まり、G8.6ガラス基板を使用すると、その利用効率は90%を超え、より効率的な生産が実現可能です。

また、AI技術の普及に伴い、端末の低消費電力化が一層求められ、その結果LTPO技術に対する需要も増加すると見込まれています。さらに、ディスプレイメーカー各社は、より低消費電力を実現できる酸化物半導体技術（IGZOなど）を適用することも検討しています。従来の酸化物半導体TFT製造工程ではイオン注入は用いられていなかったものの、次世代の高精細ディスプレイ製造においては、イオン注入工程の導入が検討されており、さらなる装置需要の拡大も期待されています。

今後はG6ガラス基板と同様に、G8.6対応のFPD製造用イオン注入装置においても世界シェア100%を維持し続けることを目指してまい進し続けます。

【特長】

当社グループは中長期計画「VISION2025」において、6つの成長戦略に取り組んでいます。本件は「分散型エネルギー対応」「再生可能エネルギー対応」に寄与する事業活動の一つです。

当社グループは事業活動を通して、SDGsへの取り組みを強化しています。本件はSDGsの17の目標の内、下記の目標達成に関連する活動です。

9.産業と技術革新の基盤をつくろう

参考

【用語解説】

 

ニュースリリース一覧に戻る