特長
当社グループの日新イオン機器は、1988年に世界に先駆けて、LTPS-TFT製造用イオン注入装置を開発して以来、多くの納入台数を重ね、同装置市場で圧倒的かつ確固たる地位を築き、中小型高品位ディスプレイ製品の普及・拡大に貢献してきました。また、スマートフォンではほぼすべてのミドルエンド、ハイエンドクラス製品のディスプレイ製造に同社製装置が採用されています。
FPD(フラッドパネルディスプレイ)製造用イオン注入装置(I/D:Ion Doping system)は、主にスマートフォンに代表されるハイエンドの携帯電話やデジタルカメラ、カーナビをはじめとする車載用機器など、高精細・高機能な画面表示が求められる液晶ディスプレイ(LCD)や有機EL(OLED)ディスプレイの製造に必要不可欠な装置です。 本装置は、大面積ガラス基板全面に短時間で均一に注入できる高い生産性と安定した稼働という特長を活かし、これらのディスプレイの駆動制御に最適な低温ポリシリコン(LTPS)や低温多結晶酸化物(LTPO)の薄膜トランジスタ(TFT)を形成するために使われています。
当社グループの日新イオン機器は、1988年に世界に先駆けて、LTPS-TFT製造用イオン注入装置を開発して以来、多くの納入台数を重ね、同装置市場で圧倒的かつ確固たる地位を築き、中小型高品位ディスプレイ製品の普及・拡大に貢献してきました。また、スマートフォンではほぼすべてのミドルエンド、ハイエンドクラス製品のディスプレイ製造に同社製装置が採用されています。